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第三百零三章 先进智能无人机作战系统

  第三百零三章 先进智能无人机作战系统 (第2/2页)
  
  但是在国内嘛……海湾科技的各项专利申请一路绿灯,因此至少在国内市场里而言,海湾科技几种光刻机,那都是有着百分之百自主专利技术的,可谈不上侵犯ASML的专利技术,顶多就是技术特征存在类似……
  
  当然,明眼人都知道,智云的DUV浸润式光刻机,基本就是对着ASML的光刻机抄的,侵犯了大量ASML的专利。
  
  只是这种事,大家虽然都知道,但是都很默契的不说……哪怕ASML都懒得说,因为说了也没用。
  
  难不成,ASML还能指望国内,因为区区专利问题就给海湾科技的DUV浸润式光刻机来个禁令啊?
  
  天堂里都做不出这么美的梦!
  
  有这幻想,国外还不如起诉国内的军舰飞机坦克之类的侵犯国外同类装备的专利呢。
  
  说实话,国外起诉飞机军舰坦克侵犯专利,然后获得胜诉的可能性,比起诉海湾科技DUV浸润式光刻机侵犯专利获得胜诉的可能性还大那么一点点。
  
  当然,哪怕是有所谓的‘自主专利’,海湾科技也不会到处叫嚷……技术人员多少还是有些自尊心的。
  
  哪怕再怎么遮掩,糊弄外人,但是自己心里都知道,这东西就是对着ASML的光刻机抄的。
  
  此时王道林道:“不过我们这边也在持续进行技术研发,争取早日绕过这些专利限制,让我们的光刻机可以光明正大的出现在大众视野里,到时候,我们就推动我们的DUV浸润式光刻机走向海外,出口创汇去!”
  
  徐申学笑呵呵道:“有这个信心很好。”
  
  王道林一边和徐申学说着话的时候,前头的无尘车间里的第一台国产DUV浸润式光刻机也正在进行着试生产。
  
  边上的丁成军也在说着这一次的试产规划:“目前我们正在试产的芯片,是集团里一种采用四十纳米工艺的逻辑芯片,这一次试产的目的主要还是看良率,效率这些性能指标,至于光刻精度的话,之前我们已经进行了大量的测试,是完全能够满足我们的四十纳米工艺的光刻机精度的!”
  
  “并且我们的光刻机也具备了二十八纳米工艺所需要的套刻精度,不过在一些技术指标上还有所欠缺,现阶段采用二十八纳米工艺的话,会导致生产成本的比较大幅度的上涨。”
  
  “甚至理论上,我们这台光刻机,也能勉强用于十八纳米甚至十四纳米工艺的生产,只是成本就太高了,不具备实际商业价值!”
  
  “目前我们微电子这边的规划是,前期采购的这款HDUV-400型号,主要还是用于四十五、四十纳米乃至二十八纳米工艺的逻辑芯片,或者是部分四十纳米、三十纳米、二十五纳米工艺的储存芯片的生产!”
  
  “这几个工艺节点上我们的订单也非常多,产能需求量大,足以给我们的400型光刻机起步订单了!”
  
  “但前提是能够满足性能需求,不是勉强能用,而是要能大规模成熟使用,并成本可控,具备商业价值!”
  
  此时王道林道:“精度问题以及成本控制问题,我们正在积极进行技术研发,以解决部分技术问题,这也是需要把设备拉到你们微电子这边来的原因,我们需要晶圆厂方面的大量测试和配合,然后才能够解决问题,提升良率,进行成本控制!”
  
  丁成军道:“配合问题伱们这边不用担心,我们会积极进行各种技术配合的。”
  
  王道林道:“给我们三个月时间,我们就能够解决这些问题,绝对是能够满足二十八纳米生产线的,丁总啊,来多几套订单啊!”
  
  丁成军则是道:“只要你们能够解决问题,订单有的是,你们不用担心。”
  
  王道林:“那说好了啊,这一批你保底得给我来个四十台的订单啊,不然我这边压力太大了,这光刻机研发每时每刻都在烧钱啊,没订单真顶不住!”
  
  丁成军瞄了他一眼:“你真敢开口,一台DUV浸润式光刻机几千万美金,你一张口就要四十台订单!”
  
  说罢,丁成军却是又道:“不过,只要你能够把技术问题解决了,我还是那句话,订单有的是,四十台也不是问题!”
  
  “这市场足够大,容得下你们四十台的订单!”
  
  “不过,你们这个400型号还是差了些,套刻精度不太行,只有五点五纳米,用来搞二十八纳米工艺节点还可以,但是用来搞我们的十八纳米工艺乃至十四八米工艺,就差了些了!”
  
  “你们把套刻精度提升上来,再把双重曝光做好了,能够做十八纳米乃至十四纳米,甚至七纳米的时候,你还怕没订单?到时候我整个微电子的光刻机订单都是你的!”
  
  王道林道:“这不巧了,我们正在开发的500型就刚刚好啊,套刻精度大幅度提升啊,足足三点五纳米呢,而且双重曝光技术也进行了升级改进,这种水准足以大规模量产十四纳米的芯片了,并且生产效率还很高,成本也低!”
  
  “要不,你先来几套预订单?放心,顶多明年夏天我就能够给你供货!”
  
  丁成军都无语了:“你好歹拿个样机出来啊,再来拉订单啊!”
  
  徐申学在一旁看着,没有多说话!
  
  这几年,海湾科技是逮着智云微电子,玩命撸羊毛,从早期的i线光刻机,再到KRF光刻机,然后到DUV干式光刻机,再到现在的DUV浸润式光刻机,再加上其他一些核心设备,如蚀刻机等等。
  
  还没弄出来呢,就找智云微电子拉预订单了。
  
  不过海湾科技的项目团队,也的确够给力,基本都保质保量的把产品给拉出来,不至于让智云微电子那边的投资打水漂。
  
  海湾科技这边的各类项目团队,一共有着七八个S级科研名额,轮流在各项目组里使用呢,其技术能力绝对够强悍。
  
  如今,整个半导体产业,尤其是设备制造以及耗材领域,也就是仙女山控股体系下,几乎占用了徐申学手底下科研系统的大半S级科研名额,加起来有三十五个。
  
  连智云微电子这个搞芯片制造的,智云半导体这个搞芯片设计的,然后再加上AI项目以及其他各种乱七八糟的项目,整个智云集团以及徐申学名下其他诸多企业里使用的S级科研名额使用,一共也才十五个。
  
  除了少数核心项目外,其他各项目组都得轮流着用S级别的名额。
  
  但是仙女山控股那边,很多项目都是常年有着S级别的科研名额使用的。
  
  由此可见仙女山控股旗下的半导体设备以及耗材领域有多重要。
  
  ————
  
  丁成军和王道林,陪着徐申学说话聊天的时候,前方的400型光刻机生产测试也有了结果。
  
  技术人员很快把相应的测试结果拿过来,并且还是附带了和ASML光刻机的一些技术参数度对比。
  
  徐申学看了看,感觉很不错,虽然各方面还是落后于ASML的先进型号的光刻机,但是整体上已经达到了堪用的水准。
  
  至少用来生产二十八纳米工艺的芯片是没有问题的,只是现阶段这台测试样机的生产成本相对比较高一些,直接用于商业生产就有些不太划算。
  
  不过这只是一台测试样机而已,后头海湾科技会根据诸多实际试产的测试结果,然后进行一些技术改进和调整,等到明年真正生产量产版的时候,是能够满足二十八纳米工艺的商业生产的。
  
  而海湾科技正在搞的500型光刻机,还有着更好的双重曝光技术,套刻精度会进一步提升,到时候也能用于十四纳米乃至十纳米工艺的。
  
  甚至极端一点也可以强行搞七纳米工艺的芯片。
  
  无非就是成本问题而已。
  
  光刻机问题,到现在来说,已经算是勉强解决了,虽然还不太好用,但总归是有了。
  
  自家有这东西,在外头和人打架或者谈判的时候,也就有了更大的底气……过去一年里,徐申学动不动就被威胁断供光刻机等半导体核心芯片。
  
  虽然还没真断供,但是也把徐申学给恶心了个够呛。
  
  如今自己有了DUV浸润式光刻机,以后谁要是敢说用光刻机卡他脖子,他就让对方直接滚蛋。
  
  徐申学这边视察了第一台DUV浸润式光刻机进行试产测试,不用多久,也有其他人听闻消息然后也陆续跑过来进行视察。
  
  不少人都挺好奇的,想要看看这国之重器到底长啥样!
  
  而没有多久,七点半晚间新闻里,也正式报道了拥有全面自主知识产权的第一代国产DUV浸润式光刻机的消息,顿时引起不小的波澜。
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